Comparativa de tres recobriments en pols de fluorocarboni (ETFE, FEP, PFA): propietats i aplicacions
Tots pertanyen a categories importants de recobriments basats en tefló. Aprofitant les propietats dels fluoropolímers, tenen un paper protector com ara la resistència a la corrosió, el rendiment antiadherent i la resistència a altes temperatures en camps industrials i altres. Tanmateix, els tres difereixen en la temperatura de funcionament, el rendiment del recobriment i els escenaris d'aplicació. Les diferències específiques són les següents:
1. Recobriment en pols de fluorocarboni termoplàstic ETFE
- Rendiment bàsic: És un dels tipus més difícils entre recobriments de fluoropolímer, amb una excel·lent tenacitat i una resistència química excepcional. Pot funcionar de manera contínua i estable a 149 ℃. Aquest recobriment només es subministra en forma de pols i es pot aplicar per formar un recobriment amb un gruix màxim de 1000 micres, oferint una forta durabilitat protectora. La seva versió a base de dissolvents es barreja a més amb resines d'alt rendiment per millorar l'adhesió i la resistència al desgast, alhora que conserva propietats bàsiques com la baixa fricció i la no adherència.
- Aplicacions típiques: Apte per a escenaris que requereixen una alta duresa del recobriment i resistència al desgast, com ara tancs d'emmagatzematge industrials i carcasses d'equips. També es pot utilitzar a la superfície d'alguns components que necessiten aïllament elèctric, compatible amb diversos substrats metàl·lics, com ara acer al carboni i alumini.
2. Recobriment en pols de fluorocarboni termoplàstic FEP
- Rendiment bàsic: Es fon i flueix durant la cocció per formar una pel·lícula no porosa i llisa sense defectes de forats d'agulla. Quan s'utilitza amb una imprimació adequada, pot adherir-se fermament als substrats metàl·lics. Té una excel·lent resistència química, resistència a la humitat i no adherència, amb un baix coeficient de fricció. La temperatura màxima de funcionament és de 204 ℃ i el llindar de processament és relativament baix: pot formar una pel·lícula sinteritzant a uns 300 ℃. Està disponible tant en pols com en forma líquida a base d'aigua.
- Aplicacions típiques: S'utilitza habitualment en escenaris que requereixen un rendiment antiadherent i una protecció bàsica contra la corrosió, com ara petits dipòsits d'emmagatzematge a la indústria química, superfícies de motlles metàl·lics, tubs d'escapament en la fabricació de semiconductors i processos de laminació de pel·lícules amb finalitats antiadherent.

3. Recobriment en pols de fluorocarboni termoplàstic PFA
- Rendiment bàsic: També es fon i s'anivella durant la cocció per formar una pel·lícula no porosa, amb un rendiment superior al FEP. La temperatura de funcionament continu pot arribar als 260 ℃ i té una resistència més forta, amb un gruix màxim de pel·lícula de 1000 micres. Combina una excel·lent resistència a la corrosió química, propietats de desprendiment i uniformitat del recobriment. Durant el processament, es pot aplicar mitjançant polvorització electrostàtica convencional en pols o equip de llit fluiditzat, amb una forta estabilitat tèrmica adequada per a processos de recobriment a alta temperatura.
- Aplicacions típiques: Adaptable a escenaris amb requisits estrictes de resistència a altes temperatures i resistència química, com ara canonades de transferència química d'alta puresa a la indústria dels semiconductors, reactors químics i equips específics de laboratori. És un dels recobriments preferits per a la protecció contra la corrosió industrial i la protecció d'equips especials.
Per veure clarament les diferències entre els tres, a continuació es mostra una taula comparativa de les característiques principals:
| Characteristics | Recobriment en pols ETFE | Recobriment en pols FEP | Recobriment en pols PFA |
| Temperatura de funcionament contínua | 149 ℃ | 204 ℃ | 260 ℃ |
| Formulari | Només en pols | Pols, líquid a base d'aigua | Pols, líquid a base d'aigua |
| Avantatges bàsics | Alta duresa, forta durabilitat del recobriment | Baixa temperatura de processament, formació de pel·lícula suau i no porosa | Excel·lent resistència a altes temperatures, forta tenacitat, excel·lent resistència química |
| Gruix màxim del recobriment | 1000 micres | Gruix normal, sense avantatge de recobriment ultragruixut | 1000 micres |



